l六甲基二硅氮烷（六甲基二硅氮烷价格波动）

本文目录：

• 1、六甲基二硅氮烷的结够式怎么画,有什么用途,常温状态是什么
• 2、HDMS什么化学试剂
• 3、六甲基二硅氮烷的简介
• 4、六甲基二硅氮烷如何在反应中除去
• 5、硅氮烷的介绍

六甲基二硅氮烷的结够式怎么画,有什么用途,常温状态是什么

1、沸点：126℃ 代称：H7300可用于特种有机合成。阿米卡星、盘尼西林、头孢霉素、氟尿嘧啶及各种青霉素衍生物等合成过程中的甲硅烷基化。也可用于硅藻土、白炭黑、钛等粉末的表面处理，其作用机理是以硅氮键与硅羟基缩合。在半导体工业中用作光致刻蚀剂的粘结助剂。

2、六甲基二硅氮烷，[（CH3）3Si]2NH，结构式见下图第一个物质 易水解，放出NH3，生成六甲基二硅氧烷。

3、【用途四】用于仪器仪表循环冷却液和制造各类有机硅产品，也作憎水剂，用于纤维织物表面处理，无线电零件的绝缘防潮。还用于气相色谱固定液。

4、硅氮烷六甲基二硅氮烷又称双（三甲基硅基）胺、六甲基二硅氮烷，或HMDS，分子式[（CH3）3Si]2NH。该物质是氨中两个氢原子被三甲基硅基取代的衍生物。六甲基二硅氮烷是一种无色液体，也是一种广泛应用于有机合成和有机金属化学反应重要试剂和主要成分。

HDMS什么化学试剂

HDMS是六甲基二硅氮烷化学试剂。为阿米卡星药用中间体，是羟基及氨基保护剂；特种有机合成。阿米卡星、盘尼西林、头孢霉素、氟尿嘧啶及各种青霉素衍生物等合成过程中的甲硅烷基化。硅藻土、白炭黑、钛等粉末的表面处理。半导体工业中光致刻蚀剂的粘结助剂。

六甲基二硅氮烷的简介

1、性质：六甲基二硅氮烷，英文缩写HMDS，是一种重要的有机硅化合物，无色透明液体。易水解，放出NH3，生成六甲基二硅醚。在催化剂存在下，与醇或酚反应，生成三甲基烷氧基硅烷或三甲基芳氧基硅烷。与无水氯化氢反应，放出NH3或NH4Cl，生成三甲基氯硅烷。化学性质：无色透明易流动液体。

2、六甲基二硅氮烷。[（CH3）3Si]2NH，又名六 甲基二硅亚胺。无色透明液体，相对密度0.7741， 沸点126℃。折光率407～409。易燃。可与多 种有机溶剂混溶。露置空气中分解成三甲硅醇和六 甲二硅醚。用作气相色谱担体扫尾剂，高分子有机 硅化合物的原料。

3、性状：无色透明液体 ，无毒、略带胺味。熔点：-78℃。沸点：125℃。相对密度：0.774。折射率：4078。 溶解性：溶于有机溶剂。闪点：52 °F。 储存条件：2-8°C。水溶解性：与空气接触会迅速被水解生成三甲硅烷醇和六甲基二硅醚。 敏感性：Moisture Sensitive。 Merck：14，4689。

六甲基二硅氮烷如何在反应中除去

1、hmds是六甲基二硅氮烷。其无色透明液体。易水解，放出NH3，生成六甲基二硅醚。在催化剂存在下，与醇或酚反应，生成三甲基烷氧基硅烷或三甲基芳氧基硅烷。与无水氯化氢反应，放出NH3或NH4Cl，生成三甲基氯硅烷。可由三甲基氯硅烷与NH3反应来制取。

2、甲基二硅氮烷与水或醇反应被称为HMDS，实际上就是水解反应。主要用在集成电路的制造中，增加硅片和光刻胶之间的附着力。和硅表面的二氧化硅反应，除去二氧化硅和水反应的羟基，使其变为疏水性，而光刻胶是疏水的，从而增加了附着力。

3、六甲基二硅氮烷，无色透明液体。易水解，放出NH？，生成六甲基二硅醚，在催化剂存在下，与醇或酚反应，生成三甲基烷氧基硅烷或三甲基芳氧基硅烷，与无水氯化氢反应，放出NH？或NH？Cl，生成三甲基氯硅烷。

硅氮烷的介绍

1、聚硅氮烷：可简单分为有机聚硅氮烷和无机聚硅氮烷，有机聚硅氮烷是侧基链上含有有机基团的Si-N聚合物；无机聚硅氮烷是侧基链全为氢的Si-N聚合物，通称全氢聚硅氮烷。全氢聚硅氮烷属于100%无机纳米高分子聚合物。广泛应用于液晶显示、微电子、汽车美容等领域。

2、四甲基二乙烯基二硅氮烷（乙烯基硅氮烷）具体用途：1，用来处理气相法白炭黑（正常推荐添加量2%-5%）处理好的白炭黑从亲水变得疏水，能更好的与生胶亲和。

3、微电子、汽车美容等领域。以全氢聚硅氮烷为主要成分的镀晶特性，具有超强附着力，超高硬度、极强耐热性、超强柔韧性、成本高，不能单独施工，在此基础上需施工氟素产品，有效防止雨痕产生，形成亲水效果。储存方法必须用铝瓶和玻璃瓶装。

4、常见的国产聚硅氮烷大桶包装，塑料包装，铁桶包装，这个就首先排除了。其次，进口的聚硅氮烷有独特的胺味，有点像化肥的味道，这个也是材料本身的特点。跟空气产生反应有气压也是它的一个特点，这个就跟为什么不能大桶包装的原因，运输存在危险。只能用铝罐装，铝具备一定的弹性对气压有一定的缓冲。