1、六甲基二硅氮烷,[(CH3)3Si]2NH,结构式见下图第一个物质 易水解,放出NH3,生成六甲基二硅氧烷。
2、子 式:(CH3)3SiNHSi(CH3)3 分 子 量:1639 性 状:无色透明液体、无毒、略带胺味。密度(25℃)g/cm3:0.770—0.780 折光率:408±0.002 闪点:27℃ 沸点:126℃ 代称:H7300可用于特种有机合成。阿米卡星、盘尼西林、头孢霉素、氟尿嘧啶及各种青霉素衍生物等合成过程中的甲硅烷基化。
3、六甲基二硅氮烷,以其中文名称六甲基二硅亚胺或1,1,1,3,3,3-六甲基二硅氮烷,又名六甲基二硅胺烷,是一种化学物质。其英文名称为1,1,1,3,3,3-Hexamethyldisilazane,商品名称还包括HMDS和DYNASYLAN HMDS。此化合物的化学结构式为C6H19NSi2,分子量为1639克/摩尔。
4、分 子 式:(CH3)3SiNHSi(CH3)3 分 子 量:1639 性 状:无色透明液体、无毒、略带胺味。
5、六甲基二硅氮烷。[(CH3)3Si]2NH,又名六 甲基二硅亚胺。无色透明液体,相对密度0.7741, 沸点126℃。折光率407~409。易燃。可与多 种有机溶剂混溶。露置空气中分解成三甲硅醇和六 甲二硅醚。用作气相色谱担体扫尾剂,高分子有机 硅化合物的原料。
6、六甲基二硅氮烷,化学名称为1,1,1,3,3,3-六甲基二硅氮烷,其CAS号为999-97-3,分子式为C6H19NSi2,分子量为1639300克/摩尔。这是一种透明的液体,具有较高的折射率(n20/D=407),闪点为52°F。

六甲基二硅氮烷与酯反应产生三硅氮烷类化合物。根据查询相关公开信息显示,六甲基二硅氮烷(Sila-diisothiourea)能与酯发生反应,在催化剂的作用下,将酯通过位置交换反应转变为三硅氮烷类化合物。改变成分比例也会使得结果不同,比如得到芳烃、醇、或其它硅氮烷化合物。
六甲基二硅氮烷与酸酐反应生成三甲基硅基酸酯。六甲基二硅氮烷或酸酐反应而将聚合物的oh端基封端的方法,以改进可固化混合物的储存稳定性。
甲基二硅氮烷与水或醇反应被称为HMDS,实际上就是水解反应。主要用在集成电路的制造中,增加硅片和光刻胶之间的附着力。和硅表面的二氧化硅反应,除去二氧化硅和水反应的羟基,使其变为疏水性,而光刻胶是疏水的,从而增加了附着力。
其次,六甲基二硅氮烷在粉末表面处理方面也表现出色。它能与硅藻土、白炭黑和钛等粉末的表面硅羟基发生反应,形成稳定的硅氮键,从而改善粉末的表面性质和性能。在半导体工业中,六甲基二硅氮烷发挥着粘结助剂的作用,特别是在光致刻蚀剂的制作过程中,它的存在对于精确的材料粘合和工艺控制至关重要。
这是一种透明的液体,具有较高的折射率(n20/D=407),闪点为52°F。理想的储存条件需在库房内保持通风、低温干燥,且需与氧化剂和酸类分开存放,熔点为-78°C,密度约为0.774克/毫升(25°C)。六甲基二硅氮烷在多个领域展现出其独特的用途。
【用途六】用作硅油生产中的封头剂,也可用作硅氮烷原料。用于硅橡胶、药品、气相色谱固定液、分析试剂、憎水剂等。
在半导体工业中,六甲基二硅氮烷发挥着粘结助剂的作用,特别是在光致刻蚀剂的制作过程中,它的存在对于精确的材料粘合和工艺控制至关重要。在有机硅氮烷化学领域,六甲基二硅氮烷的独特性质被进一步利用。
与无水氯化氢反应,放出NH3或NH4Cl,生成三甲基氯硅烷。可由三甲基氯硅烷与NH3反应来制取。用作气相法白炭黑表面疏水处理剂及有机合成反应中提供N原子的试剂,还可用作碳化硅纤维的助剂,提高碳化硅纤维的耐热性和强度,还可用作涂料的防沉淀剂。并用于制备有机硅化合物。
可用于硅藻土、白炭黑、钛等粉末的表面处理,其作用机理是以硅氮键与硅羟基缩合。在半导体工业中用作光致刻蚀剂的粘结助剂。在有机硅氮烷化学中,可以用作与氯硅烷单体进行氯交换,从而获得聚硅氮烷。这种方法比直接通氨法在合成上有巨大优势。
六甲基二硅氮烷在多个领域展现出其独特的用途。首先,它在特种有机合成中扮演着重要角色,特别是在合成抗生素如阿米卡星、盘尼西林、头孢霉素、氟尿嘧啶以及各种青霉素衍生物的过程中,作为甲硅烷基化的关键中间体。其次,它也被用于处理硅藻土、白炭黑和钛等粉末的表面,提升其性能和附着力。
可用于硅藻土、白炭黑、钛等粉末的表面处理。可用于硅藻土、白炭黑、钛等粉末的表面处理,其作用机理是以硅氮键与硅羟基缩合。在半导体工业中用作光致刻蚀剂的粘结助剂。六甲基二硅氮烷是一类危险品,因为六甲基二硅氮烷是易燃液体,遇明火、高温、氧化剂易燃。遇水分解有毒硅化物气体。
可用于硅藻土、白炭黑、钛等粉末的表面处理。可用于硅藻土、白炭黑、钛等粉末的表面处理,其作用机理是以硅氮键与硅羟基缩合。在半导体工业中用作光致刻蚀剂的粘结助剂。六甲基二硅氮烷是一类危险品,因为六甲基二硅氮烷是易燃液体,遇明火、高温、氧化剂易燃。遇水分解有毒硅化物气体。
在半导体工业中,六甲基二硅氮烷发挥着粘结助剂的作用,特别是在光致刻蚀剂的制作过程中,它的存在对于精确的材料粘合和工艺控制至关重要。在有机硅氮烷化学领域,六甲基二硅氮烷的独特性质被进一步利用。
可用于硅藻土、白炭黑、钛等粉末的表面处理,其作用机理是以硅氮键与硅羟基缩合。在半导体工业中用作光致刻蚀剂的粘结助剂。在有机硅氮烷化学中,可以用作与氯硅烷单体进行氯交换,从而获得聚硅氮烷。这种方法比直接通氨法在合成上有巨大优势。
【用途四】用于仪器仪表循环冷却液和制造各类有机硅产品,也作憎水剂,用于纤维织物表面处理,无线电零件的绝缘防潮。还用于气相色谱固定液。
作为甲硅烷基化的关键中间体。其次,它也被用于处理硅藻土、白炭黑和钛等粉末的表面,提升其性能和附着力。在半导体工业中,六甲基二硅氮烷作为光致刻蚀剂的粘结助剂,对于精细电子器件的制造至关重要。总的来说,这是一种多功能的化学品,在精细化工和电子材料领域有着广泛的应用。
hmds是六甲基二硅氮烷。其无色透明液体。易水解,放出NH3,生成六甲基二硅醚。在催化剂存在下,与醇或酚反应,生成三甲基烷氧基硅烷或三甲基芳氧基硅烷。与无水氯化氢反应,放出NH3或NH4Cl,生成三甲基氯硅烷。可由三甲基氯硅烷与NH3反应来制取。
F-35的头盔显示系统(HMDS),可向飞行员显示受控于头部符号信息,也就是说飞行员的视线决定了显示内容。例如飞行员看向远处的另一架飞机,甚至在他看到这架飞机前,系统就会在面罩上显示出关于这架飞机的位置、身份认证等信息,并自动跟踪这架飞机。
六甲基二硅胺(HMDS),味道似胺,不过不能判定你所提到的怪味是否由该物质产生,该物质危害如下:最重要危害与效应:急性:眼睛接触:会刺激与灼伤眼睛造成眼睛过敏、红肿、刺痛或角膜受损。皮肤接触:会刺激与灼伤皮肤造成皮肤过敏、红肿、刺痛或灼伤。