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羟基的保护与脱保护
羟基的保护与去保护1羟基的保护（前言）羟基广泛存在于许多在生理上和合成上有意义的化合物中，如核苷，碳水化合物、甾族化合物、大环内酯类化合物、聚醚、某些氨基酸的侧链。
在有限的范围内人们采用酰胺和酰肼的形式保护羧基，从其解脱方式的角度补充了酯类保护作用的不足。
摘要：保护措施必须符合的要求只和要保护的基团发生反应，和其他基团不反应；反应较易进行，精制也比较容易；保护基易脱除，在除去保护基时，不影响其他基团。
硅醚的保护基包括羟基保护基、酰氧保护基等等，不同的保护基在脱保护方面有不同的条件。
优点如下：1）原料易得。例如常用的有二甲基叔丁基氯硅烷，二苯基甲基氯硅烷等。2）反应容易进行。一般在干燥的二氯甲烷或者四氢呋喃中进行，加入一定量的催化剂DMAP中进行。
先加醇制成缩醛再进行有关反应，待反应结束后用稀酸将缩醛分解成醛，这样可保护羰基。
三甲基一氯硅烷和水的反应方程式是什么?
1、CH3）3SICL + H20 = （CH3）6SI2O + 2HCL 要是水解就是产生（CH3）6SI2O 简称MM，也称作甲基双封头，主要用在有机硅硅油的封头剂，也就是终止二甲基环体硅氧烷的链长。常温常压下三甲水解不会产生CH4和SIO2的。
2、不是所有的硅烷都可以水解，只有带有可水解基团（比如烷氧基）的硅烷才可以水解；硅烷水解后烷氧基变成羟基 -OR 变成 -OH，如果条件合适，羟基之间发生condensation会生成分子量增大的产物。
3、三甲基一氯硅烷，分子式为 （CH3）3SiCl ，HCL是水解之后的主要产物之一，因为浸泡在水中，所以应该不会有发烟现象，HCL气体极易溶于水生成稀盐酸。
4、Si的电负性（90）比H的电负性（20）小，硅烷中H是-1价。
5、CH3SiCl3一甲基三氯硅烷+H20 == CH3siCl2（OH）+HCL，三氯硅烷和氢氧化钠反应化学方程式为：SiHCl3+3NaOH+H2O→Si（OH）4+3NaCl+H2（气体）三氯硅烷是一种无机物，化学式为HCl3Si。
6、化学方程式为：SiHCl + 2HO =SiO + 3HCl + H。
tbaf脱三甲基硅的机理
机理是在有机合成中，三甲基（甲）硅基可以用做烃基的保护基。先使烃基和三甲基氯（甲）硅烷反应生成二甲基（甲）硅醚该醚在碱性条件下稳定，可以进行所需反应，反应后再在酸性条件下水解。
请问您想问的是tbaf脱三甲基硅的机理效果好吗？tbaf脱三甲基硅的机理效果好，因为脱三甲基硅基对于用做烃基的保护基机理效果非常好。不过后期处理很难处理干净。因为tbaf即溶于水又溶于有机溶剂。
在脱sem保护基反应中可知，机理是氢离子和醚形成翁离子pmb以正离子形式脱离，由于TBAF具有强氧化性，它可以从硅醇中脱去保护基，而不影响硅碳键的存在。
酸性条件下脱去：在酸性条件下，三甲基硅基可以通过质子化作用脱去，生成相应的炔烃，常用的酸性试剂包括硫酸、盐酸盐酸盐、盐酸酸等。
在酸或碱作用下，或受热情况下，缩合脱水，生成六甲基二硅氧烷。三甲基硅醇1又称三甲基羟基硅烷。沸点100℃。相对密度0.8112，折射率3880。Si—OH键中的羟基不稳定。与相应的碳醇相比较，三甲基硅醇有较强的酸性。
有机合成工艺与开发——溶剂的选择
在溶剂中的染料颜色能指示溶解它的单一溶剂或混合溶剂的极性。 选择溶剂的时候，溶剂的沸点很重要。高沸点的溶剂，例如二甲苯，因为将溶剂残留去除到可接受的水平存在潜在的困难，所以很少选择它来分离原料药。
烃类与绿色选择/——己烷、异辛烷和甲苯提供稳定的烃基环境，而离子液体和超临界气体（二氧化碳）则在绿色化学中崭露头角。溶剂的选择并非单纯考虑反应活性，它关乎安全性、成本效益和产物处理。
酸性溶剂：这类溶剂给出质子的能力强于接受质子的能力，如甲酸、硫酸等。碱性溶剂：接受质子的能力较强的溶剂，如乙二胺（NH2CH2CH2NH2）等。
溶液聚合所用溶剂主要是有机溶剂或水。应根据单体的溶解性质以及所生产聚合物的溶液用途，进而选择适当的溶剂。常用的有机溶剂有醇、酯、酮以及芳烃（苯、甲苯）等；此外，脂肪烃、卤代烃、环烷烃等也有应用。
在自由基溶液法合成聚乙烯醇的工艺中，选择甲醇的作用有以下几个方面：溶剂：甲醇作为一种极性溶剂，可以溶解聚合物和引发剂等反应物质，在反应过程中提供溶解环境，有利于反应的进行。
当进行有机合成实验时，需要通过结晶来分离产物和副产物。结晶过程中，溶剂的选择对结晶的产率和纯度都有着重要的影响。在选择结晶溶剂时，有些条件是不需要考虑的。首先，不需要考虑溶剂的色泽。