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三甲基一氯硅[(CH3)3SiCl]是一种生产有机硅化合物的原料,遇明火或氧化...
1、D 由三甲基一氯硅的化学式（CH3）3SiCl可知，三甲基一氯硅由碳、氢、硅、氯四种原子构成的，而不是4个原子，故D说法错误。
2、名字应该是“三甲基一氯硅烷”，亦可简称为“三甲基氯硅烷”，结构简式（CH3）3SiCl 三甲基氯硅烷十分易燃，燃烧火焰明亮，有白色固体生成。三甲基氯硅烷和水反应生成盐酸。被污染的水无毒，但含有盐酸，盐酸就是污染物。不能被过滤。其危害如下：健康危害 侵入途径：吸入、食入、经皮吸收。
3、SlHCl3+nH2O —→SiO2？nH2O + Cl2+HCl （2 ） 易挥发、易汽化 （3 ） 易着火、易爆炸：三氯氢硅的发火点为28℃，燃烧时产生氢气和氯化氢，其反应如下：SiHCl3 +O2 —→SiO2 + Cl2 + HCl 三氯氢硅蒸汽燃烧时具有天蓝色的火焰，在氧不足的情况下产生浓的白烟（可用作烟雾弹）。
4、三甲基一氯硅烷和水的反应方程式：2（CH）SiCl+H0=Si（CH）O+2HCl 三甲基一氯硅烷和水反应，生成六甲基二硅氧烷和盐酸：醇与三甲基一氯硅烷反应生成三甲基硅醚。
太阳能光伏发电最关键的材料是高纯硅.三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当...
1、三氯甲硅烷（SiHCl3）是一种含有硅、氢、氯三种元素的化合物。（2）蒸馏是一种分离液体混合物的方法，其原理是利用混合物中各成分沸点的不同来实现分离。（3）在还原过程中，粗硅（SiHCl3）与氢气（H2）反应，在1084℃的高温条件下生成高纯硅（Si）和氯化氢（HCl）。
2、三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法。SiHCl3+H2=（一定条件）=Si+3HCl。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiOHCl和H2，化学反应方程式为3SiHCl3+3H2O==H2SiO3+H2↑+3HCl；在这个高温过程中若混入O2，H2有可能和O2发生爆炸。
3、SiHcl3+H2=Si+3HCl （高温条件下）HCL再和粗Si在300度的条件下生成三氯甲硅烷和氢气。该反应是一可逆反应。反应达到一定平衡后就会达到动态平衡。制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法，即通过上面化学得到单质硅是当前制备高纯硅的主要方法。
4、三氯硅烷（SiHCl3）与氢气（H2）在1357K的高温条件下反应，生成高纯度的硅（Si）和氯化氢（HCl）。反应的化学方程式可以表示为：SiHCl3 + H2 → Si + 3HCl。（4）在比较硅（Si）和氯（Cl）的非金属性时，我们可以发现硅的非金属性小于氯。
5、SiHCl3 + 3H2O =H2SiO3 + 3HCl + H2↑。反应非常剧烈。
6、三氯甲硅烷和氢气在石英管中反应不能进行，是因为石英管的温度过高。三氯甲硅烷是一种易燃的有机物，它在与氢气反应时会产生热量，而石英管的温度可以达到1200摄氏度。如果将三氯甲硅烷和氢气放入石英管中反应，石英管的温度很可能会超过三氯甲硅烷的燃点，从而导致爆炸。
tms是什么化学物质
四甲基硅烷。化学式C4H12Si。外观无色液体，易挥发。密度相对密度（等于1）0.65。熔点零下99℃。沸点25℃。水溶性不溶于水溶于醚等多数有机溶剂。四甲基硅烷为烷烃类有机物，可用作硅烷试剂。四甲基硅烷，英文名Tetramethylsilane，简称TMS。作为内标物，常用于核磁共振（NMR）测试中。
TMS，四甲基硅烷；四甲基甲硅烷；tetramethylsilane 分子式：（CH3）4Si .性质：无色易挥发液体。熔点-99℃。沸点26～28℃。闪点0℃。折射率3580。密度0.648g/cm3。化学稳定，不被浓硫酸或强碱分解。在紫外线照射下，可氯化成氯甲基三甲基硅烷。
TMS是四甲基硅烷；四甲基甲硅烷；tetramethylsilane的英文缩写，有其他不懂可以再问我。
四甲基硅（TMS）。以四甲基硅（TMS） 为标准物质， 规定： 它的化学位移为零，然后， 根据其它吸收峰与零点的相对距离来确定它们的化学位移值。核磁化学位移为0的物质是四甲基硅（TMS）。
