XeF4(四氟化氙)是sp3d2杂化,同时,它的分子构型是平面正方形.XeF4中Xe外层8电子,4个F各贡献1个电子,共12个电子,则需6条轨道。Xe的4d轨道已满,用外层d轨道,所以sp3d2杂化。当平面正方形时斥力最小,稳定。
XeF4中,Xe发生sp3d2杂化,与四个F的p轨道成键。根据VSEPR理论(价层电子对互斥理论),中心Xe原子上有四个σ键电子对和两个孤电子对,故其分子空间构型为平面正方形。相关内容:电子式是难以表示出XeF4的结构的。根据价层电子对互斥理论可以很容易得知它属于sp3d2杂化。
平面四边形。四氟化氙的分子构型为平面四边形,无色单斜晶系结晶。XeF4中,Xe发生sp3d2杂化,与四个F的p轨道成键,因XeF4中有2对孤对电子对(价层电子对互斥理论),故其分子空间构型为平面四方形,性质是无色晶体。
四氟化氙是无色晶体,1963年核磁共振谱与X射线晶体学数据显示其分子为平面正方形结构。
高中化学问题,XeO4空间构型怎么样 XeO4不是平面正方形。XeF4才是。 XeO4中,价层电子对数=4,成键电子对数=4,孤电子对数=0,正四面体构型 XeF4中,价层电子对数=6,成键电子对数=4,孤电子对数=2,基本构型为八面体,其中处于对位两个顶点被孤电子对占据,实际分子构型为正方形。
化学元素手册·硫·四氟化硫 四氟化硫的化学式为SF4,CAS登记号为7783-60-0,摩尔质量为1006 g/mol。四氟化硫为无色气体,其熔点为-121℃,沸点为-38℃。在20-86℃低温下,其密度为7g/kg;在-73℃时,其密度为1919kg/m。
化学式:SF4。CAS登记号:7783-60-0。摩尔质量(g/mol):1006。颜色:无色。性状:气体。熔点(℃):-121。沸点(℃):-38。密度(kg/m3):7(g);1919(-73℃)。
n=(6-4)/2=1,所以按照VESPR为AX5型分子有两种可能,左边斥力最大的孤对电子-S-F键(90°)有2条,而右边有三条,所以左边那种更稳定,即为变形四面体。判断SF4的分子结构:在SF4分子中,中心S原子的价电子对数为(6+1*4)/2=5,其中四对成键电子对,一对孤电子对。
1、化学式:CF4。CAS登记号:75730。摩尔质量:8004g/mol。颜色与性状:无色气体。熔点:186℃。沸点:128℃。密度:在184℃时为1960kg/m。制备方法:氟与碳直接化合。碳化硅的氟化。四氟化硫的氟化作用。在氟中燃烧氟氯化碳。
2、化学式:CF4。CAS登记号:75730。摩尔质量(g/mol):8004。颜色:无色。性状:气体。熔点(℃):186。沸点(℃):128。密度(kg/m3):1960(184℃)。四氟化碳是含碳化合物氟化过程的最终产物。制备四氟化碳的方法包括以下几种。
3、化学元素手册:探索碳的神秘面纱——(37)四氟化碳I. 优雅的化学结构 化学式: CF4/,它在化学世界中以CAS编号75-73-0独树一帜,其摩尔质量达到8004克/摩尔,重量之轻,犹如气体精灵。
六氟化硫分子结构呈八面体排布,键合距离小、键合能高,因此其稳定性很高,在温度不超过180℃时,它与电气结构材料的相容性和氮气相似。在四氟化硫分子中,中心S原子的价电子对数为(6+1×4)/2=5,其中四对成键电子对,一对孤电子对。孤电子对的排布方式有两种。
SF2:不稳定,加热后更活跃,易水解。可被碱液或活性氧化铝吸收。SOF2:无色,有臭鸡蛋味,化学性质稳定。能被活性炭或活性氧化铝吸附,剧毒,可引起肺水肿。SO2F2:无色无臭,稳定性极高。加热不易反应,不易被吸收,是一种能导致痉挛的剧毒气体。
稳定性:在常温下,SF6几乎不与其他物质反应,表现出高度的化学稳定性。但在强紫外光照射下会分解。温室气体:SF6是已知最强大的温室气体之一,对全球气候变化有重要影响。应用领域 半导体制造:在硅刻蚀工艺中,SF6作为主要刻蚀气体,与生成挥发气体SFC4F8协同作用,实现深硅刻蚀。
SF2(二氟化硫):SF2的化学性质极不稳定,加热后更加活泼,容易水解成S、SO2和HF。SF2气体可以通过碱液或活性氧化铝吸收。4) SOF2(氟化亚硫酰):SOF2是一种无色气体,有臭鸡蛋味,化学性质稳定。它与水分反应缓慢,并能迅速被活性氧化铝或活性炭吸附。
SF4气体对肺有侵害作用,影响呼吸系统,其毒性与光气相当。2)S2F2(氟化硫)常温下为无色气体,有毒,有刺鼻气味,遇水分能完全水解形成S,SO2和HF。 S2F2对呼吸系统有类似光气的破坏作用。3)SF2(二氟化硫)SF2的化学性能极不稳定,受热后性能更加活泼,易水解成S,SO2和HF 。
SF6的物理性质包括无色、无味、不易燃、无毒、绝缘性、比空气重、冷却能力、高介电强度、热稳定性、难溶于水但易溶于非极性有机溶剂。在化学性质方面,SF6在常温下几乎不与其他物质反应,但在强紫外光照射下会分解。值得注意的是,SF6是已知最强大的温室气体之一。SF6在半导体制造中有广泛的应用。