硼烷作用
乙硼烷，以其强烈的还原性，被广泛应用为还原剂。在有机合成中，它能与氢化锂反应生成更强大的硼氢化锂，如6LiH+2BF3─→6LiF+B2H6所示的反应所示。乙硼烷的主要来源是通过三氟化硼的加工，其产物具有令人不快的气味。
乙硼烷有强还原性，可作还原剂。它跟氢化锂反应生成更强的还原剂硼氢化锂，用于有机合成。乙硼烷可用硼的卤化物在乙醚溶液中跟氢化铝锂LiAlH4反应制得。将乙硼烷加热到100～250℃得其它高硼烷。用量最大的是乙硼烷，主要由三氟化硼加工制得。
硼烷的作用：储氢材料：硼烷作为一种高效的储氢材料，具有优异的吸氢性能和较高的储存密度。在需要大量储存氢气的应用场景中，如氢能源汽车、氢能源飞机等，硼烷可以作为一种理想的储氢介质。通过适当的化学反应，硼烷可以释放出其中的氢气，实现氢能的稳定储存和释放。
该化合物在化学研究和工业应用中具有广泛的用途。viwit公司长期供应这种化合物，其在化学反应中作为催化剂或配体，能够参与各种有机合成反应，展现出良好的化学稳定性和反应活性。由于其独特的化学性质，N，N-二乙基苯胺硼烷在药物研发、材料科学以及精细化工等领域都有着显著的应用前景。
化学镀镍添加剂对镀镍有什么作用呢?
化学镀镍添加剂的主要作用是提升镀层性能、调节镀液稳定性和优化镀镍过程。在化学镀镍过程中，添加剂的引入可以显著改变镀层的物理和化学性质。例如，某些添加剂能够增加镀层的硬度、耐磨性和耐腐蚀性，这对于提高产品的使用寿命和性能至关重要。
化学镀镍添加剂在镀镍处理过程中有着重要作用，而且要了解其一些特性，把握一些添加技术，使其对镀镍质量有帮助。化学镀镍添加剂的性能很多，化学镀镍添加剂PH值对处理过程的影响。氢离子是化学镀镍反应的产品之一。
镀厚层镍在最后一步成型的时候加光亮剂合适。
化学镀镍层表面是极为均匀的，只要镀液可以浸泡得到镍层表面，电镀过程中溶质交换充分，镀层就会非常均匀，几乎可以达到仿形的效果。0电镀无法对一些形状复杂的产品素材进行全表面施镀，但化学镀可以对任何形状工件施镀。
电镀镍主要用作防护装饰性镀层。化学镀镍层的性能有如下作用 （1）利用次磷酸钠作为还原剂的化学镀镍过程得到的是Ni-P合金，控制镀层中的磷含量可以得到Ni-P非晶态结构镀层。镀层致密、孔隙率低、耐腐蚀性能均优于电镀镍。
(R)-2-甲基-CBS-恶唑硼烷历史来源
随后，E.J.Corey（1990年诺贝尔化学奖得主）的研究进一步扩展了这一领域，他报道了手性醇胺与硼烷（BH3）的反应能生成手性恶唑硼烷。令人惊奇的是，BH3·THF在手性恶唑硼烷的催化下，能够实现酮的不对称还原，这一过程被称为Corey-Bakshi-Shibata（CBS）还原法。
几年后，诺贝尔化学奖得主E.J.Corey的研究团队进一步发展了这一领域，他们发现手性醇胺与硼烷（BH3）的结合可以生成手性恶唑硼烷。这一催化剂在催化过程中展现出非凡的能力，能以高对映选择性和高收率，引导前手性酮进行不对称还原，这一过程被命名为Corey-Bakshi-Shibata reduction或简称CBS还原法。
CAS号为112022-83-0的化合物，其中文名称为（R）-2-甲基-CBS-恶唑硼烷，英文名称则包括（R）-2-Methyl-CBS-oxazaborolidine和（R）-3，3-Diphenyl-1-methylpyrrolidino[1，2-c]-1，3，2-oxazaborole。
R）-2-甲基-CBS-恶唑硼烷是一种高效的还原剂，以其独特的立体选择性和高收率而闻名。它在有机合成中扮演着重要角色，特别适用于对称性要求高的前手性酮的不对称还原过程。这种化合物的成功应用包括生成复杂的α-羟基酸和α-氨基酸，以及构建C2对称的二茂铁二醇和炔丙基乙醇等关键结构单元。